深さ方向の変化を非破壊で見る
〜InN/GaN/GaAsの場合〜何がわかるのか?
薄膜表面に発生する深さ方向の変化(方位、格子定数、組成など)を非破壊で解析することができます。
測定・解析例
インプレーン回折法:
インプレーン回折測定では、薄膜試料の表面にX線をすれすれに入射します。この時に、入射する角度を精密に制御することでX線が試料内部に侵入する深さを制御することができます。
インプレーン回折測定では、薄膜試料の表面にX線をすれすれに入射します。この時に、入射する角度を精密に制御することでX線が試料内部に侵入する深さを制御することができます。

図の例では、入射角度を深くして行くと最初は最表層のInNだけが観察され、
→次にGaNが出現し、→もっと深くすると基板のGaAsからの信号が現れてきています。
→次にGaNが出現し、→もっと深くすると基板のGaAsからの信号が現れてきています。
推奨装置
- 薄膜評価用試料水平型X線回折装置 SmartLab®
- 試料水平型多目的X線回折装置 UltimaIV+In-Planeアタッチメント
