High/Low-k材料・磁性材料・透明導電膜や液晶などの測定・解析例、またインプレーンＸ線回折法、Ｘ線反射率法などの最新手法をご紹介いたします。
半導体・電子材料 アプリケーションリスト
- PETフィルムの深さ方向分析
- 2次元検出器による強誘電体薄膜の配向評価
- ハードディスク基板の深さ方向分析
- GMRヘッド積層膜の膜厚分析
- グレーティングパターンのCD計測と断面形状評価
- 高速2次元検出器によるCu薄膜の配向性評価
- 有機ELデバイスの劣化機構の解明−熱刺激電流による電子トラップの解析−
- 有機電界効果トランジスタの動作機構の解明−熱刺激電流による電子トラップの解析−
- インジウムアセチルアセトナートの加熱変化
- Direct Silicon bonding (DSB) 基板に接合界面および結晶性の評価
- ラビング処理ガラス基板上 Cuフタロシアニン薄膜の分子配向評価
- GaN薄膜の結晶性（チルト・ツイスト分布）の評価
- 高真空下での発生ガス分析によるハードディスクの潤滑膜（保護膜）の評価
- 色素増感太陽電池の性能向上
- セラミックスチップコンデンサーの脱バインダーシミュレーション
- TMRヘッド用磁気抵抗薄膜の評価
- ナノ構造体の評価1 〜InGaAsナノワイヤの場合〜
- ナノ構造体の評価2 〜微細加工組織の場合〜
- ウェーハファブリケーションにおける各種薄膜の評価
- 有機TFT用薄膜ペンタセンの回折測定
- 逆格子マップによるSGOIウェーハの結晶性評価
- X線反射率法による薄膜評価
- インプレーンＸ線回折法、およびＸ線反射率法によるhigh-k材料（HfO2）の評価
- インプレーンＸ線回折法による次世代磁気記録媒体（FePt）の評価
- High-k膜の深さ方向分析
- レーザーミラーの深さ方向分析
- アルマイト皮膜中の結晶水の深さ方向分析
- 透明導電酸化膜（ZnO）の深さ方向分析
- ハードディスクの深さ方向分析
- SGOIウェーハのGe濃度勾配測定
- 液晶分子の配列を調べる
- 極薄膜のインプレーン逆格子マップ測定
- 深さ方向の変化を非破壊で見る
- ホイッスラー合金の熱処理による構造変化
- 薄膜の3次元的な配向状態を調べる
- すれすれ入射X線散乱法による低誘電率層間絶縁膜（Low-k）膜の評価
- Ｘ線回折法によるhigh-kゲート絶縁膜の構造評価
- DVD記録層の結晶構造評価
- 薄膜の評価を行う
