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走査型蛍光X線分析装置

蛍光X線分析装置 ZSX 400


蛍光X線分析装置 ZSX 400
最大φ400mmまでの大型試料に対応できる蛍光X線分析装置です。300mmウェーハなどの半導体関連試料をはじめ、WEEE、RoHS、ELVなどの環境規制における有害元素分析等幅広い用途に対応できます。試料観察機構を備えており画像を見ながら任意の測定ポイントを分析できます。微小部分析、面内分布測定にも対応しています。

製品の特長・仕様

  • 大型試料に対応 大型試料室の採用により400mmφ×50mmH(最大重量30kg)までの試料の測定が可能です。
  • アダプタシステムを採用 試料に合わせたアダプタを使用することにより多様な試料形状に対応できます。
  • 試料観察機構装備 最小φ0.5mmの任意の測定ポイントを画像を見ながら設定できます。また面内分布測定は1測定で最大999ポイントまで対応しています。
  • 人間工学に基づく設計 半導体製造装置の人間工学/人的要因に基づくエンジニアリングに対する安全性ガイドライン(SEMI S8-95A)に準拠して設計されており、オペレータの安全性と作業性を確保しています。
  • 実績のあるソフトウェアを搭載 多機種にも採用されているソフトウェアを使用し、簡単操作・高機能を実現しました。
  • 環境負荷を軽減 分析ガス消費量が1/10、1次冷却水量は約1/2以下になりました。(当社従来機比)また省エネルギー機能も装備し環境負荷を軽減させました。
アプリケーション例:TMRヘッド用磁気抵抗薄膜の評価

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