面内分布測定

品質の評価には均質性も重要な項目となります。半導体分野の300mmウェハなどでは面内膜厚・組成の均質性や汚染評価が重要となります。リガクの蛍光X線分析装置にはウェハ専用装置から汎用機にいたるまで面内分布測定が可能です。

• ウェーハファブリケーションにおける各種薄膜の評価
• 塗膜中の異物分析
• 花崗岩の分析

• 走査型蛍光Ｘ線分析装置　ZSX PrimusII
• 走査型蛍光Ｘ線分析装置　ZSX Primus
• 蛍光Ｘ線分析装置　ZSX400
• 薄膜評価用蛍光Ｘ線分析装置　Wafer X 300
• 薄膜評価用蛍光Ｘ線分析装置　Wafer/Disk Analyzer 3640

• 元素分析
• 組成分析
• 定性・定量
• 微量分析
• 面内分布測定
• 深さ方向分析
• 付着量分析
• 汚染分析
• オンライン分析・現場分析