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微小部、状態、その他

膜厚評価


膜厚を評価する方法として、X線反射率法、蛍光X線法、GDSによる方法があります。X線反射率法は半導体デバイスに使用する薄膜材料の膜厚・密度・表面・界面粗さを評価する方法として注目されています。また、蛍光X線分析のFP法を用いることによって単層・多層膜の膜厚評価ができます。GDSは膜厚だけでなく深さ方向の元素分布評価も可能です。
膜厚評価の参考グラフ

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