イベント概要

出品展示のご案内

「 450 mm / 先端シリコンプロセス / パワー半導体 / MEMSデバイス 」

「 450 mm / 先端シリコンプロセス / パワー半導体 / MEMSデバイス 」といったキーワードをテーマとして掲げ、
「 金属汚染分析 / 超薄膜測定 / ナノ形状計測 」等の検査・評価手法を紹介致します。

各種X線検査装置・アプリケーションによる課題解決・サポート策をご提案致します。
みなさまのご来場を、心よりお待ち申し上げます。

リガクブースのご案内

2013.12.4(水)~6(金) 10:00~17:00

幕張メッセ国際展示場 1~6ホール

リガクブース:HALL3 小間番号3B-501


      セミコン・ジャパン 2013 主催サイト
SEMICON 2013 RIGAKU Booth Map

ご来場前の事前登録が大変便利です。スムーズな入場のためにぜひセミコン・ジャパン Webサイトから事前入場登録をご利用ください。
<事前入場登録はこちらから>

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