新製品紹介

ナノスケールの構造評価から形状解析まで、ナノ材料評価に対応
小角X線散乱測定装置の最新機種「NANOPIX」を発表

2016年2月1日

この度リガクは、ナノスケール(0.1nm~100nm)の構造評価に最適な小角X線散乱測定装置「NANOPIXTM」の販売活動を2月1日より開始することを発表します。本装置は、実験室系小角X線散乱測定装置として最高レベルの小角分解能( min~0.02nm-1)を有し、サブナノスケールの構造情報を得られる広角回折・散乱測定もカバーする、マルチスケールの構造に対応した測定装置です。

今日の先端材料は、そのほとんどがナノスケールの微細構造が高度に制御された材料と言えます。小角X線散乱(SAXS:Small Angle X-ray Scattering)は、ナノスケールの構造やその不均質性を電子密度の不均一領界により生じる散漫散乱を測定することによって調べる手法。研究開発から品質管理まで、広い分野で必要とされる、ナノスケールの構造評価に最適です。対象となる物質は幅広く、固体、液体、液晶、ゲルなどの規則・不規則構造の分析に加え、ナノ粒子の粒子径分布計測、タンパク質分子の立体構造解析や離合・集散評価、炭素繊維強化樹脂(CFRP)などの先端材料研究などに役立ちます。

NANOPIXは、高輝度・高出力ポイントフォーカス光源、高性能多層膜ミラー「OptiSAXS」、高性能・低散乱ピンホール・スリット「ClearPinhole」を組み合わせて構成した小角X線散乱測定専用装置です。X線検出器には高性能2次元半導体検出器を標準搭載し、系に異方性のある材料からの回折・散乱情報も余さず測定することができます。また、より広い角度範囲の測定が必要な場合には2モジュール構成により大面積化されたHyPix-6000(オプション)も搭載可能です。原子レベルの構造(0.2nm~1nmのミクロ構造)から分子集合体の構造(1nm~100nmのマクロ構造)まで幅広く測定できるように、試料と検出器の距離が容易に変更可能となっています。
また、機能性材料の機能・構造相関研究において温度、湿度などの環境制御は必要不可欠です。NANOPIXは、温度、湿度の制御、DSC(示差走査熱量測定)との同時測定や外部機器との同期などが可能で、さまざまな環境下での構造評価を実現します。

主な特長

  • 高い小角分解能
    1,200W出力のポイントフォーカス高輝度X線発生装置MicroMax-007 HFMRを採用し、新規に光学設計された長焦点多層膜集光素子「OptiSAXS」と高性能・低散乱ピンホール・スリット「ClearPinhole」の組み合わせにより、実験室系小角X線散乱測定装置として最高レベルの小角分解能( min~0.02nm-1)を実現しました。また、X線発生装置と多層膜集光素子をビームモジュールとして一体化させ、高い安定性と再現性を実現しました。
  • インテリジェントなシステム制御ソフトウェア
    光学系は電動化され、頻繁な試料アタッチメントの変更も容易に行うことができるように、セットしたアタッチメントを自動認識するセンシング機能を搭載しています。
  • 高性能2次元半導体検出器を採用
    X線検出器としてハイブリッド型多次元ピクセル検出器HyPix-3000を標準搭載しています。HyPix-3000は、空間分解能100µm、775×385画素、受光面積77.5 mm×38.5 mmという高性能2次元半導体検出器であり、系に異方性のある材料からの回折・散乱情報も余さず測定することができます。また、より広い角度範囲の測定が必要な場合には2モジュール構成により大面積化されたHyPix-6000(オプション)も搭載可能です。
  • 簡単に試料-X線検出器間の距離を変更可能
    試料と検出器間の真空パスは、短い真空パスのパーツを複数連結して長さを調節して使用しますが、使用しないパーツを退避させるスライド機構を有するため、試料-検出器距離の変更に面倒な真空パスの上げ下ろしは不要です。この機能により操作性が向上し、最適な条件での測定が容易になりました。
  • さまざまな試料環境測定に対応
    各種試料環境での測定を容易にするため、固定可能なキネマティックベースを採用しています。先端材料開発では温度、湿度、力学的変形や動作環境・動作条件下での構造情報が重要です。NANOPIXには、各種試料環境下での測定が可能なオプションが用意されています。また、装置内の試料セット位置の周囲には広い空間があり、さまざまな試料環境制御装置の設置が容易です。
Niton XL5

製品の外観
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